Minimum feature size (F) ist eine Längeneinheit in der fotolithografischen Herstellung von Halbleiterelementen. Sie hat immer den Wert der kleinsten lithografisch herstellbaren Struktur. Da die Form und Zusammenstellung von Halbleiterelementen sich größtenteils nicht ändert, sondern nur die Herstellungstechnik, wird die Größe in Vielfachen d...